듀폰, KIST에 R&D센터 설립

사진; 김유승 KIST원장(오른쪽)과 존 호지슨 듀폰 수석부회장이 협약을 체결한 후 협약서를 교환하며 악수를 나누고 있다.

미국 듀폰의 연구개발(R&D)센터가 내달 중 서울 홍릉 한국과학기술연구원(KIST) 내에 설립된다.

김유승 한국과학기술연구원(KIST)원장과 존 호지슨 듀폰 수석부회장은 21일 KIST 제1회의실에서 기술협약식을 갖고 서울 홍릉 KIST 내부에 ‘듀폰 한국기술연구소(DuPont Korea Technology Center)’를 설립하기로 했다.

KIST와 듀폰은 연구소에 근무할 지원인력과 연구원 모집, 시설공사에 착수했으며 다음달 중 정식으로 문을 열게 된다. 공동연구 비용은 듀폰에서 지원하되 KIST는 필요에 따라 매칭 펀드 형태로 연구개발자금을 투자한다.

‘듀폰 한국기술연구소’는 탄소나노튜브·FED 등을 비롯, 각종 디스플레이 관련 소재 연구에 들어간다. 1단계로 디지털 디스플레이 재료에 대해 2년간 집중적인 연구를 수행하고 이를 토대로 2단계부터는 KIST와 공동연구 과제를 선정해 3년간 첨단 원천기술 개발에 나설 계획이다. 듀폰 측은 연구소 인력이나 투자 규모에 대해서는 공개하지 않았다.

‘듀폰 한국기술연구소’의 설립은 국제과학기술협력재단(KICOS 이사장 서정욱)의 중재로 추진돼 지난 5월 듀폰과 KICOS가 한국 R&D 센터 설립에 관한 포괄적 기본합의를 맺으면서 급진전됐다.

존 호지슨 듀폰 수석부회장은 “이번 R&D 센터 설립으로 듀폰의 연구개발 능력을 한국의 주요 고객들에게 직접 전달할 수 있게 됐다”며 “듀폰의 고객뿐만 아니라 한국의 대학·정부·업계와 긴밀히 협력, 좀더 빠르게 재료 과학을 발전시킬 수 있을 것”이라고 말했다.

한세희기자@전자신문, hahn@etnews.co.kr