IMEC, 193nm 이머션 리소그래피 개발 박차

　유럽 반도체 연구단체 IMEC가 193nm(나노미터) 이머션 리소그래피 개발을 위해 30여개 기업으로 구성된 컨소시엄을 결성했다고 실리콘스트래티지스가 11일(현지시간) 보도했다.

실리콘스트래티지스는 이번 컨소시엄이 IMEC의 서브 45nm(나노미터) 리서치 클러스터 프로그램의 리소그래피 서브프로그램 내에서 발족될 예정이라고 전했다.

이 프로젝트는 지난 1월 처음 발족했으며 IMEC는 이 프로젝트에 참여한 IC제조업체, 툴공급업체, 마스크숍 및 소프트웨어 업체들의 명단을 공개했다. 또 칩 제조 분야에서는 NEC와 소니가, 툴 공급업체로는 ASML홀딩, 칼짜이즈, 닛산케미컬 등이 포함되며 마스크숍 업체로는 다이니폰스크린, 토판프린팅, 포트로닉스 등이 포함된다. 또 소프트웨어 업체로는 ASML마스크툴, KLA-텐코 파이늘, 멘토그래픽, 시그마-C 시놉시스 등이 참가했다.

IMEC의 45nm 및 서브 45nm 프로젝트 클러스터 관련 7개 핵심 칩 개발업체들은 자동으로 이머션 리소그래피 프로그램에 참여하게 된다. 7개사는 인텔, 삼성, TI, 필립스, 인피니언, ST마이크로, 마쯔시타 등이다. IMEC의 루크 밴 덴 호브 실리콘프로세서 및 디바이스 기술부문 부사장은 “이번 프로젝트에는 연간 1000만유로(1240만달러)가 넘는 예산이 할당될 것”이라고 설명했다.

전경원기자@전자신문, kwjun@