나노종합팹, 연말까지 280억 규모 국산장비 발주

　나노종합팹센터(단장 오계환)는 2005년까지 구축키로 한 나노종합팹에 총 280억원 규모의 국산 장비를 도입키로 했다고 27일 밝혔다.

　센터는 이를 위해 이날 1차 100억원 규모의 장비발주를 위한 공고를 낸 데 이어 연말까지 180억원 규모의 국산 장비를 추가로 구매키로 했다.

　센터가 1차로 공고한 국산 구매장비는 화학적·기계적 연마장치(CMP), 급속열처리장치(RTP), 물리적기상증착장치(Multi Target Sputter), 전기도금장치(Electroplating), 초고진공증착장치(UHV Evaporator), 습식세정장치(Wet Station), 열확산로(Furnace) 등이다.

　또 센터는 연말까지 2차 공고를 통해 화학적기상증착장치(CVD), 원자층증착장치(ALD), 이온첨가장치(Ion Shower Doping), 화학적·기계적 연마장치, 원자현미경(AFM), 보조장치(Pump, Chiller) 등 180억원 규모의 국산 장비를 추가로 구매한다는 계획이다.

　센터는 이를 통해 나노종합팹 장비국산화율을 20%대로 끌어올린다는 방침이다.

　오계환 사업단장은 “이번 국산장비 도입계획은 최근 이슈로 부각한 장비 국산화에 일조하자는 취지에서 적극 검토됐다”며 “나노종합팹에 도입된 장비는 나노기술연구에 사용되는 만큼 나조장비제조기술 확보에 좋은 계기가 될 것”이라고 말했다.

　<장지영기자 jyajang@etnews.co.kr>