인텔이 네덜란드의 ASM리소그래피에 극자외선(EUV) 리소그래피 스캐너를 처음으로 주문했다고 EE타임스가 보도했다.
EUV 리소그래피는 미세회로를 가공할 수 있도록 해주는 차세대 리소그래피 기술로 인텔은 EUV 스캐너를 오는 2005년 하반기에 납품받아 오리건주 힐스보로에 위치한 300㎜ 로직기술개발센터에 설치, 45미크론 공정 기술을 개발하는데 이용할 계획이다.
인텔의 이사인 피터 실버맨은 “오는 2007년에 상용 제품을 생산하는 것을 목표로 하고 있다”고 밝혔다. 그러나 그는 EUV 스캐너의 가격에 대해서는 언급을 회피했다.
ASM리소그래피의 EUV 스캐너는 아직 시험(베타) 단계에 있는 장비다.
<황도연기자 dyhwang@etnews.co.kr>
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