일 ASET, EUV 장비 프로토타입 공개

　일본의 초고등전자기술협회(ASET)가 미 샌타클래라에서 개최된 SPIE마이크로리소그래피 콘퍼런스에서 극자외선(UEV) 리소그래피장비의 알파 프로토 타입을 선보였다고 실리콘스트래티지스가 보도했다.

　이에 따르면 ASET의 프로토 타입은 0.035미크론 공정 기술로 IC를 만드는 데 사용할 수 있다. 그러나 ASET측은 순수 연구단체임을 들어 이번에 개발한 프로토 타입을 상용화할 계획이 없음을 밝혔다.

　ASET는 일본 정부와 캐논, 니콘 등 사기업이 참여, EUV 기술 개발을 위해 설립된 단체로 핵심 기술을 개발한 후 이를 회원사에 이전하고 있다.

　ASET는 현재 EUV리소그래피를 위한 블랭크 포토마스크, 계측 시스템, 절연 기술, 레이저 광원 등의 기술도 개발중이다.

　EUV는 기존의 광 리소그래피를 대체할 차세대 반도체 공정기술로 주목받고 있으며 지난해 4월 인텔, IBM, 로렌스리버모어국립연구소 등 미국의 주요 기업, 연구소 컨소시엄인 EUV인더스트리컨소시엄이 ASET에 앞서 UEV리소그래피 장비 프로토 타입을 선보인 바 있다.

　<황도연기자 dyhwang@etnews.co.kr>