기존 습식 세정공정을 획기적으로 개선할 수 있는 차세대 플라즈마 건식 세정시스템이 개발됐다.
고등기술연구원(이사장 김덕중) 플라즈마기술센터의 이근호 박사팀은 과학기술부 국가지정연구실(NRL)사업의 지원으로 대기압 환경에서 형성된 고효율 저온 플라즈마를 이용, 생산성을 향상시킬 수 있는 플라즈마세정시스템을 개발했다고 15일 밝혔다.
이 시스템은 세정효과와 처리시간 단축효과가 뛰어나 공정의 단순화 및 연속 공정을 통한 생산성향상을 꾀할 수 있는 장비로 PDP 등 디스플레이 산업뿐 아니라 반도체, 폴리머 산업 등에 이용될 수 있다.
특히 기존 저효율의 습식 세정공정 기술에 비해 세정효과, 공정비용의 절감 및 생산성 증대 효과가 우수해 디스플레이·반도체·폴리머 제품 등의 품질 및 가격 경쟁력 개선에 크게 기여할 수 있을 것으로 연구원은 예상했다.
또 이 시스템은 제품 표면의 스크래치와 김서림 등을 방지할 수 있는 특수한 기능을 갖춰 표면개질 공정기술로의 활용이 가능하다고 이근호 박사팀은 덧붙였다.
연구팀은 이와 관련, 국내특허 12건을 출원했으며 현재 미국, 일본 특허출원 준비 및 개발된 시스템에 대한 생산적용을 추진하고 있다.
<권상희기자 shkwon@etnews.co.kr>
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