한국도카이카본, CVD-SiC 국산화 추진

　반도체 제조용 고순도 탄소(카본) 및 실리콘카바이드(SiC) 웨이퍼 등을 생산하는 한국도카이카본(대표 권봉수)이 현재 100% 수입에 의존하고 있는 화학기상증착(CVD)-SiC 응용제품을 생산키로 결정하고 다음달 초 설비투자에 들어갈 예정이라고 22일 밝혔다.

　그동안 일본도카이카본으로부터 SiC 웨이퍼를 들여와 가공·공급하던 이 회사는 다음달 60억원을 투입해 경기 안성공장 옆에 SiC 제품의 제조를 위한 CVD 확산로(furnace) 2기를 갖춘 SiC 전용공장을 건설, 내년 초부터 시제품 생산에 들어갈 예정이다.

　화학약품 및 고온에 강하고 마모성이 거의 없는 오염방지 청정소재인 CVD-SiC는 반도체나 웨이퍼 제조공정시 사용되는 각종 장비의 소모품에 코팅함으로써 수명을 늘리고 품질을 향상시켜줄 뿐 아니라 직접 SiC 웨이퍼로 만들어져 확산공정시 온도조절을 위한 더미 웨이퍼로 사용되는 등 고청정화되는 반도체 공정에서 수요가 급증하고 있는 핵심재료다.

　이 회사는 SiC 전용공장이 준공되면 연간 50억원 이상의 수입대체효과를 거둘 수 있을 것으로 기대하고 있다고 말했다.

　<정진영기자 jychung@etnews.co.kr>