한화석유화학, CMP 슬러리 공장 증설 완료

　한화석유화학(대표 신수범)이 반도체 산화막 연마용(CMP) 공정에 투입되는 CMP 슬러리의 생산능력을 기존 연 2000톤에서 4000톤으로 증설하는 공사를 마무리짓고 4일 대덕 중앙연구소에서 준공식을 가졌다고 밝혔다.

　국내에서 소비되는 CMP 슬러리는 그동안 전량 수입에 의존해왔으나 지난해 4월 한화석유화학이 CMP 슬러리를 국산화하고 같은해 10월 연 2000톤 규모의 생산시설을 가동, 국내업체에 본격 공급해왔다. 　

　CMP 슬러리는 반도체공정의 고집적화·다층화 추세에 따라 세계시장 규모가 97년 1억달러, 지난해 2억5000만달러에서 2005년에는 10억달러에 이를 것으로 예상되는 재료다. 　　

　국내 CMP시장 규모는 올해 500억원에서 매년 30∼40%의 고성장이 예측돼 한화석유화학은 내수시장 점유율은 물론, 해외수출을 위해 2003년까지 1만톤 규모로 생산설비를 증설할 예정이다.

　한화측은 현재 CMP 슬러리의 성능을 향상시키는 한편, 2003년까지 차세대 슬러리인 STI용 슬러리, 메탈 슬러리, 콜로이달 슬러리 등을 개발하고 2005년에는 세계시장의 30%를 점유해 세계 3대 슬러리 전문 제조업체가 된다는 계획을 세웠다.

　CMP공정은 차세대 반도체의 초정밀도를 충족시키기 위한 필수공정으로 국내에서도 64M램 이상의 반도체 생산공정부터 사용되고 있다.

　 <정진영기자 jychung@etnews.co.kr>