[SEDEX KOREA 2000]반도체산업협회장상-ETRI

★피소그래피공정의 초점심도 확장기술연구

한국전자통신연구원(원장 정선종)과 서울광학산업(대표 이지웅)은 반도체회로용 사진전사장비의 초점심도를 2배 늘리는 연구로 한국반도체기술경진대회에서 연구부문 협회장상을 수상했다.

이들은 반도체회로의 패턴을 사진전사하는 장비인 스테퍼에서 선명한 회로패턴을 얻을 수 있는 범위인 초점심도를 2배 이상 늘리는 방법을 개발했다.

이로써 반도체 패턴크기가 0.1미크론대에 들어서면서 발생하는 초점심도가 짧아지는 문제를 근원적으로 해결할 길이 열린 것으로 평가받는다.

종전에 스테퍼에서 작업물을 기계적으로 상하로 움직이며 여러번 노광해 초점심도를 늘리는 방법은 있었으나 실용적이지 못했다.

새로운 방법은 두께 수백미크론의 얇은 수정판을 기존 스테퍼에 장치함으로써 별도 공정이나 장비조작 없이 초점심도를 확장하는 효과를 거둘 수 있다.

기존 스테퍼에 이 장치를 장착할 경우 패터닝 공정상의 여유도를 향상시켜 패턴 형성과정에서 불량을 줄이고 디스크 드라이브용 헤드제조나 마이크로 머시닝과 같이 두꺼운 감광층을 사용하는 경우에도 패터닝이 가능한 특성을 지닌다.

이 방법은 한국전자통신연구원과 서울광학산업이 공동개발한 것으로 연구기간 동안 기본 아이디어를 실현시킬 정밀광학부품의 가공법에 주력한 결과 성공했다고

양사 관계자들은 밝힌다.

한국전자통신연구원은 국내 및 미국특허를 획득했고 실용화를 위해 기존 스테퍼회사와 공동으로 성능검증을 위한 실험에 들어간 상황이다.

<배일한기자 bailh@etnews.co.kr>