삼성전자(대표 윤종용)는 세계에서 처음으로 0.15미크론 초미세가공 공정을 적용한 8메가비트 저전력 S램 개발에 성공, 전세계 이동전화업체에 공급한다고 11일 발표했다.
이번 0.15미크론 초미세공정을 적용한 저전력형 S램 제품 양산은 경쟁사 대비 6개월 가량 앞서 삼성전자는 1세대인 아날로그 휴대폰과 2세대인 디지털 휴대폰에 이어 3세대 차세대이동통신(IMT2000) 단말기용 저전력 S램 시장에서도 유리한 고지를 선점하게 됐다.
저전력 S램 제품은 8메가비트 대용량임에도 불구하고 저소비 전류 특성을 동시에 지녀 인터넷 접속과 동영상 전송 등 대용량 데이터 처리를 요구하는 IMT2000 단말기에 탑재될 예정이다.
또 기존 0.20미크론 S램 제품에 비해 60% 이상 생산성이 향상됐으며 특히 0.20미크론급 생산설비를 그대로 사용하는 단위공정과 집적공정까지 개발, 세대교체에 따른 설비투자비도 줄였다.
S램 반도체 최대 수요처인 이동전화시장은 올해 4억3000만개로 추정되며 삼성전자는 올해 15억달러, 내년에는 18억달러의 S램 매출실적을 올려 세계시장 점유율을 26% 이상으로 확대할 계획이다.
이밖에도 삼성전자는 0.15미크론 공정을 적용한 16메가 S램 샘플개발에 성공해 일본 이동전화업체에 시험공급한 상황이며 연말부터 0.15미크론 4메가비트 S램 제품도 월 2000만개씩 생산할 방침이라고 밝혔다.
<배일한기자 bailh@etnews.co.kr>
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