나리지*온, 질화갈륨계 반도체 특허취득

나리지*온이 질화갈륨계 반도체 박막을 건식식각하기 위한 유도결합형 플라즈마 식각공정방법 및 그 장치에 대한 특허를 취득했다고 공시했다.

23일 나리지*온은 공시를 통해 질화갈륨계의 반도체 박막을 표면 손상 없이 효율적으로 식각해 높은 고정도의 질화갈륨계의 식각률을 얻게 하는 개량된 유도결합형 플라즈마 식각공정 방법 및 그 장치에 관한 특허를 취득했다고 밝혔다.

이번 특허는 이온을 가속시키는 RIE방식과 고밀도 플라즈마를 형성한 ICP방식을 결합한 RIE/ICP 방식을 고안한 것이다.

현재 나리지*온의 개발주요제품인 질화갈륨 청색 가시광반도체와 백색가시광반도체를 위한 양산용 기계장치에 응용중이다.

<양봉영기자 byyang@etnews.co.kr>