반도체장비 전문 제조업체인 아펙스(대표 김상호 http://www.apexsemi.com)는 일본의 쿼크시스템과 노이시스템으로부터 핵심기술을 이전받아 엑시머 진공자외선(Excimer VUV)을 이용한 드라이(dry)클리닝 공정장비의 개발에 성공하고 본격적으로 시장개척에 나선다고 2일 밝혔다.
이번에 개발한 장비는 고출력·단파장의 진공자외선을 조사, 반도체나 액정표시장치(LCD)등 각종 소재의 표면에 부착돼 웨트(wet) 세정으로도 제거할 수 없는 이물과 유기물 등을 산화시켜 제거하는 광세정장비다.
이 장비는 고주파(RF) 방전방식의 기술을 활용함으로써 일본 경쟁업체의 방전방식 제품에 비해 5분의 1 이하의 전압으로 램프 구동이 가능하다.
아울러 낮은 열 발산으로 별도의 수냉식 냉각기구를 갖추지 않아도 되며, 장비의 핵심 모듈인 램프 수명이 기존 제품보다 2배 이상 길어 유지비용을 절반 이하로 줄여준다.
박희연 이사는 『이 제품은 기존 드라이클리닝 장비에 비해 활성산소를 수십배 이상 많이 사용해 세정효과가 빠르고 열이 나지 않는 단파장 자외선을 사용, 열에 의한 손상을 주지 않으며 오염물질을 배출하지 않는 환경친화적 장비로 기존 유기 세정장비를 급속히 대체할 전망』이라고 말했다.
아펙스는 최근 국내 한 소자업체로부터 장비 2대를 수주받아 7월까지 납품할 계획이며 플라즈마디스플레이패널(PDP) 및 유기EL라인에 적용하기 위한 수주협상도 진행중이다. 또 일본을 제외한 전세계 독점 판매권을 확보, LCD 라인투자가 활발한 대만시장을 우선 공략할 계획이다.
용어설명 : 엑시머는 매우 낮은 기저상태의 분자 1개와 에너지가 일정한 수준인 여기상태의 분자 1개가 결합한 2중체를 말한다.
<온기홍기자 khohn@etnews.co.kr>
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