[화요특집-반도체.부품장비] 떠오르는 반도체장비 신기술.. DUV 리소그래피

　64MD램 이상 고집적 반도체 제조를 위한 DUV(Deep Ultra Violet)용 리소그래피 공정 도입이 최근 본격화하면서 이의 필수장비인 스테퍼와 트랙제품의 공급 경쟁도 치열해지고 있다.

　DUV용 스테퍼는 기존의 i라인 광원 대신 KrF(불화크립톤) 엑시머레이저를 사용, 회로선폭 0.25미크론 이하의 미세 패턴을 형성할 수 있도록 한 첨단 리소그래피 장비로 대당 가격이 5백만달러를 호가하는 최고가 반도체 장비다.

　또한 DUV용 트랙제품은 KrF 엑시머레이저에 감응하는 DUV용 포토레지스트를 웨이퍼에 도포한 후 이를 다시 현상하는 일종의 코터&디벨로퍼 장비로 DUV 리소그래피 공정용 핵심설비다.

　반도체 회로선폭이 점차 미세화하면서 이러한 DUV용 프로세스 장비의 도입이 최근 크게 늘고 있으며 특히 64MD램 3세대 이상의 고집적 반도체 제조부터는 회로선폭 0.25미크론 이하의 패턴 형성이 가능한 DUV용 스테퍼와 트랙장비의 채택이 불피할 것이라는 게 전문가들의 분석이다.

　이에 따라 세계 최대 스테퍼업체인 일본 니콘과 네덜란드 ASML을 비롯해 SVG·캐논 등 업체들은 DUV용 스테퍼 출시를 본격화하고 있으며 TEL·DNS·FSI 등 트랙장비 업체들도 DUV 시장 개척에 적극 나서고 있다.