LG화학(대표 성재갑)이 세계적인 화학업체인 미국 롬앤드하스(Rohm & Hass)社와 합작으로 반도체용 포토레지스트(PR)의 국내 생산을 위한 PR 전문 합작회사를 설립했다.
LG화학은 지난 1월 미국 롬앤드하스사와 합작 조인식을 가진 데 이어 최근 국내 합작법인 설립을 위한 창립 발기인 총회 및 이사회를 개최, PR의 국내 생산과 제품개발을 담당할 「LG쉬플리사」를 공식 출범시켰다고 16일 밝혔다.
LG와 롬앤드하스사가 49 대 51의 비율로 합작 설립한 LG쉬플리는 오는 99년 하반기까지 전북 익산 지역에 PR 전문 생산공장을 건설하고 64MD램급 이상의 고집적 반도체 제조에 사용되는 i라인용 제품과 최근 그 수요가 급증하고 있는 DUV(Deep Ultra Violet)용 PR 생산에 주력할 계획이다.
초기 자본금 2천만달러로 설립된 LG쉬플리는 PR의 본격적인 생산 및 차세대 제품의 개발을 위해 향후 1천만달러를 추가로 투자, 총 3천만달러의 외자를 유치할 계획이며 초대 사장으로 LG화학 여천 공장 주재 전무인 정구동씨가 선임됐다.
PR는 설계된 반도체 회로를 웨이퍼에 전사시킬 때 빛의 조사 여부에 따라 달리 감응함으로써 미세 회로 패턴을 형성할 수 있도록 하는 노광 공정용 핵심 재료로 연간 국내 수요만도 2천억원 규모에 달한다.
이 가운데 LG화학이 이번 합작사 설립을 통해 생산 추진하는 i라인 및 DUV용 PR는 64MD램 이상 고집적 반도체 제조에 사용되는 차세대 제품으로 현재 전량 수입 사용하고 있다.
LG화학 한 관계자는 『국내 최대 화학제품 생산업체인 LG화학이 PR시장에 본격 참여함으로써 현재 18%대에 머무르고 있는 국내 PR 자급률도 조만간 급상승할 것으로 기대되며 이를 위해 차세대 PR제품의 개발은 물론 PR 제조용 원재료의 국산화도 적극 추진할 계획』이라고 밝혔다.
<주상돈 기자>
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