일본 히타치제작소가 반도체부문 실적악화에 따라 야마나시현 새 공장 건설 계획을 2년 연기한다.
「일본경제신문」에 따르면 히타치제작소는 오는 4월로 예정했던 야마나시현 고후제조사업소 새공장의 착공시기를 2년 연기한다고 최근 밝혔다.
이에따라 새 공장의 양산가동시기는 당초 계획했던 내년 말에서 2천1년말로 늦춰지게 된다. 지난 96년말 고후제조사업소 부근 공장부지 2만3천8백평방미터를 약 20억엔에 매입한 히타치는 이 부지에 오는 99년말까지 약 1천1백억엔을 투자,공장을 완공하고 2000년부터 연간 1천4백억엔 규모로 마이컴 등 로직IC와 차세대 메모리를 생산할 계획이었다.
<심규호 기자>
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