포토레지스트 시장, 국내 개발 및 생산 확대 전망

LG화학을 비롯한 대기업 계열 화학전문업체들이 반도체용 감광재료인 포토레지스트(PR) 시장에 잇따라 진출함에 따라 이 제품의 국내 개발 및 생산이 크게 확대될 전망이다.

포토레지스트는 설계된 반도체 회로를 웨이퍼에 전사시킬 때 빛의 조사 여부에 따라 달리 감응함으로써 미세 회로 패턴을 형성할 수 있도록 하는 노광 공정용 감광 재료로 이 중 G라인용과 i라인용 제품은 각각 4MD램 및 16MD램 양산에 사용되며 차세대인 DUV용 포토레지스트는 64MD램 이상 반도체 제조에 사용된다.

하지만 그동안 국내서 생산되는 제품 대부분이 G라인용 위주로 현재의 시장 주도 제품인 i라인용과 최근 그 수요가 급증하고 있는 DUV용 포토레지트의 경우 거의 전량 외산에 의존하고 실정이다.

이에 따라 연간 2천억원 정도로 추정되는 국내 포토레지스트 수요 중 80%이상을 외국으로부터 수입해 사용하고 있으며 이는 금액으로도 1천5백억원 규모에 달한다.

더욱이 이 시장은 반도체 고집적화 및 재료 시장 확대에 힘입어 오는 2000년에는 3천억원 규모를 훨씬 넘어설 것으로 전망되는 등 향후 20% 이상의 고속 성장이 예상되는 유망 분야이다.

이런 가운데 대기업 계열의 국내 화학 및 일반 약품 업체들이 이 시장에 잇따라 진출, i라인용 또는 DUV용 포토레지스트의 개발 및 생산에 본격 나섬에 따라 이 재료의 국내 개발 및 상용화 여부에 업계의 관심이 집중되고 있다.

지난해 이후 국내 포토레지스트 시장에 진출한 화학업체 수는 총 4군데.

동양그룹 계열인 동우반도체약품이 일본 스미토모와 기술제휴로 이 시장에 진출한데 이어 삼양그룹 계열의 삼양사와 금호그룹 계열인 금호석유화학도 외국 업체와의 기술 합작을 통해 포토레지스트의 국내 개발 및 생산을 추진중이다.

이와 함께 최근 LG그룹 계열의 LG화학이 미국 롬앤하스사의 PR전문 자회사인 쉬플리사와 합작으로 국내에 PR 생산 공장을 건설하고 내년 하반기부터 제품 양산에 본격 착수키로 함에 따라 국내 포토레지스트 시장 참여 업체수는 기존의 동진화성과 훽스트산업을 합쳐 총 6개 업체로 늘어나게 됐다.

이에 따라 국내 업체들의 이러한 첨단 포토레지스트 개발이 실제 상용화로 이어질 경우 현재 15% 수준에 머물고 있는 포토레지스트의 국산 사용률은 1,2년내에 40% 선을 넘어설 것으로 예상되며 이는 1천억원 이상의 수입 대체 효과를 가져올 수 있을 것으로 기대된다.

여기에 무기화학 제품 전문업체인 미원상사가 반도체용 감광제 개발을 현재 추진 중이고 일반 약품 업체인 일양약품도 이미 1단계 개발을 완료, 최근 품질 시험에 들어간 것 알려져 국내 포토레지스트의 개발 및 생산은 더욱 활성화될 전망이다.

재료 업계 한 관계자는 『포토레지스트 등과 같은 고성능 반도체 재료에 대한 국내 수요가 최근 급증하고 있는 상황에서 국내 주요 화학업체들의 잇딴 PR 시장 진출은 차세대 반도체 재료에 대한 첨단 기술 습득과 본격적인 국산 대체를 가능케 하는 청신호로 해석된다』고 강조했다.

<주상돈 기자>