스퍼터(Sputter)와 에처, 화학적증착장비(CVD), 분자선 에피텍셜 장비 등 폭넓은 제품군을 보유하고 있는 일본 어넬바는 이번 전시회를 통해 자사가 생산하는 주력장비인 「코스모스 시리즈」 중 3백 대응 스퍼터와 각종 진공 컴포넌트 제품들을 선보였다.
특히 이번에 전시한 「I-1201 PVD」는 자사의 2백 웨이퍼 대응 기종과 장비 구조가 통일한 3백 웨이퍼용 스퍼터로 이 장비를 활용하면 2백 웨이퍼를 사용해 개발한 프로세스 기술을 3백 웨이퍼 시대에도 똑같이 적용할 수 있다고 어넬바측은 주장했다. 또한 이 장비는 설치면적도 기존 2백용 장비보다 약 18% 늘어나는데 그쳐 공간 활용을 극대화했다.
이와 함께 어넬바는 저압 원격 스팩 프로세스, 고압 알루미늄 스퍼터 프로세스, 드라이 에칭 장치 등을 출품했으며 각종 차세대용 CVD 프로세스의 개발 상황도 공개했다.
많이 본 뉴스
-
1
“저녁 대신 먹으면 살 쭉쭉 빠진다”···장 건강·면역력까지 잡는 '이것' 정체는?
-
2
“라면 먹을떄 '이것' 같이 먹지 마세요”…혈관·뼈 동시에 망가뜨려
-
3
의사가 극찬한 '천연 위고비'…“계란 먹고 살찌는 건 불가능”
-
4
국내 최초 휴머노이드 로봇 쇼룸 문 연다…로봇이 춤추고 커피도 내려
-
5
배달 3사, 이번엔 '시간제한 할인' 경쟁…신규 주문 전환율 높인다
-
6
현대차, '더 뉴 그랜저' 디자인 공개…“新기술 집약”
-
7
삼성전자, SiC 파운드리 다시 불 지폈다… “2028년 양산 목표”
-
8
中 BYD, 국내에 첫 하이브리드차 출시…전기차 이어 포트폴리오 다각화
-
9
우리은행, 계정계 '리눅스 전환' 착수…코어 전산 구조 바꾼다
-
10
소프트뱅크-인텔, HBM 대체할 '9층 HB3DM' 기술 공개
브랜드 뉴스룸
×



















