64MD램 이상 고집적 반도체 제조에 DUV(Deep Ultra Violet) 노광기술의 도입이 확실시되고 있는 가운데 관련 핵심장비인 DUV용 스테퍼의 출시 및 시장선점 경쟁이 올해부터 본격화될 전망이다.
12일 관련업계에 따르면 그동안 DUV용 스테퍼를 연구 차원에서 도입 또는 검토해 온 국내 소자업체들이 최근 이 장비의 양산라인 채용을 본격화하면서 올해 DUV용이 신규도입 스테퍼의 60% 이상을 차지할 것으로 전망되는 가운데 이 시장을 둘러싼 국내 스테퍼 공급업체들의 시장쟁탈전이 치열지고 있다.
DUV용 스테퍼는 64MD램 3세대 제품 이상의 고집적 반도체 제조에 사용되는 필수장비로 KrF 엑시머 레이저를 이용, 회로선폭 0.25미크론 이하의 미세회로패턴 형성이 가능함은 물론 최근에는 스텝&스캔 방식을 채택, 기존 스텝 방식보다 훨씬 넓은 필드면적을 제공하는 차세대 노광장비다.
그동안 국내 소자업체 연구소를 중심으로 10대 이상의 DUV용 스테퍼를 공급한 한국SVG는 스텝&스캔 방식의 DUV용 스테퍼 「Micra ScanⅢ」를 앞세워 연구소에 이은 양산라인용 시장에서도 게속 우위를 확보한다는 전략이다.
미국 ASML의 국내 대리점인 한택은 지난 세미콘 전시회에서 스탭&스캔 방식으로 26×33의 넓은 필드면적과 회로선폭 0.22미크론의 미세가공이 가능한 「PAS 5500/500」을 발표하고 DUV용 스테퍼시장 개척에 나섰다.
또한 니콘프레시전코리아는 DUV용 제품으로 기존 스텝 방식의 「EX-20」 모델과 스텝&스캔 방식의 「EX-201」을 출시하고 올해부터 본격적인 영업에 착수하는 한편 노광 능력 및 속도를 향상시킨 「EX-202」 모델도 곧 선보일 방침이다.
캐논의 국내 대리점인 삼화양행은 기존 스텝 방식의 「3000EX3」에 이어 올 하반기까지는 27×32.5의 필드사이즈를 제공하는 스텝&스캔 방식의 「3000EX-LS」 제품도 출시할 예정이다.
업계의 한 관계자는 『올해 1백대로 예상되는 국내 스테퍼 수요의 70% 정도는 DUV용 제품이 차지할 것으로 보이며 이 장비의 가격이 평균 7백만달러를 넘기 때문에 국내시장 규모도 4천억원을 상회할 것』으로 전망했다.
<주상돈 기자>
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