특허청, 특허.실용신안법 개정안 입법예고

특허청은 특허행정 선진화사업의 일환으로 특허출원 및 실용신안출원에 대한 등록 전 이의신청제도를 등록 후 이의신청제도로 변경하는 것을 골자로 한 특허법 및 실용신안법개정(안)을 마련, 26일자로 입법예고했다.

특허청은 현행 등록 전 이의신청제도의 이용률이 극히 낮아 등록기간만 3∼4개월씩 지연시키고 있을 뿐만 아니라 미국, 일본, 유럽 등 주요 선진국의 경우 이미 등록 후 이의신청 제도를 채택하고 있어 공청회 등을 거쳐 개정법률안을 마련하게 되었다고 밝혔다.

이번 개정안은 이의신청제도를 등록 후 이의신청제도로 변경하는 한편 등록공고일로부터 3개월 이내에는 누구나 이의신청을 할 수 있도록 하였으며 심사관 3인의 합의체를 통해 이의신청에 대한 결정을 내리도록해 이의결정의 정확성을 높이는 데도 많은 비중을 두었다고 특허청은 설명했다.

특허청은 이 개정안을 내년 3월 임시국회에 상정해 7월 1일부터 시행할 계획이다.

한편 관련업계는 등록 후 이의신청제도가 도입되면 특허 및 실용신안등록 출원의 심사 처리기간이 평균 3∼4개월 단축돼 특허청의 심사적체 해소에 도움이 될 뿐만 아니라 국내기업의 기술경쟁력 제고에도 기여하게 될 것으로 전망하고 있다.

<김성욱 기자>


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