新日本製鐵, 8인치 SIMOX웨이퍼 기판 샘플 출하

일본의 新日本製鐵이 8인치 SIMOX기판을 개발,샘플을 출하하기 시작했다고 「日經産業新聞」이 지난 13일 보도했다.

이 신문에 따르면 新日鐵은 고성능 반도체에 사용되는 SOI(실리콘 온인슈레이터)기판의 일종인 SIMOX기판을 개발,야마구치縣소재 연구소에서 생산,1장에 15만엔에 출하를 개시했다.

SIMOX기판은 실리콘 기판에 고농도의 산소 이온을 집어넣은 후 가열처리해 표면으로부터 약간 내측에 산화실리콘 절연층을 형성한 것으로 NTT가 개발한 새로운 기술이다.

新日鐵은 NTT로부터 기술을 도입하는 한편 독자적인 기술 개발에도 나서 8인치 기판의 경우 산소 이온을 넣는 새로운 방법을 고안,필요한 산소이온의 양을 종래의 5분의1로 줄이고 기판표면의 실리콘 층의 결함도 크게 감소시켰다.

이 회사는 지난해 9월부터 6인치 SIMOX기판의 샘플을 출하했는데 앞으로 8인치를 포함한 양산기술 확립에 나설 계획이다.상업화를 위한 생산은자회사인 닛데쓰전자가 담당할 예정이다.

新日鐵은 저전압,저소비전력이 요구되는 휴대단말기용 반도체로 수요가 증가할 것으로 예상되고 있어 이번 8인치 SIMOX기판 출시가 전자재료사업확대의 발판이 될 것으로 보고 있다.

<박주용 기자>