한·중 산재권 침해행위 근절대책 마련키로

최근 한·중 양국간에 문제가 되고 있는 특허 및 상표의 도용,모방 등 산업재산권 침해행위를 막기 위한 제도적인 장치가 마련된다.

정해주 특허청장과 가오루린 중국 전리국장은 지난 6일과 7일 이틀간 특허청 대회의실에서 제4차 한·중 특허청장 회의를 갖고 양국 기업의 직접투자확대에 따른 특허 및 상표권 침해행위의 예방 및 해결을 위해 적극 협력하고정부차원에서의 문제해결을 위한 제도적 장치를 마련키로 합의했다.

한·중 양국은 이를 위해 빠른 시간안에 특허분쟁 예방 및 해결을 위한「산업재산권 애로해소 창구」를 마련하는 한편 「산업재산권 애로해소 실무회의」를 서울 또는 북경에서 개최키로 했다.

한·중 특허청장은 또 양국의 특허 및 상표 등의 출원,등록 및 기타 권리보호 방안에 관한 정보가 부족해 양국의 기업이 어려움을 겪고 있는 점을 고려해 북경에서 한국의 산업재산권제도 및 권리 구제방안에 관한 대업계 설명회를 개최키로 합의했다.

양국 특허청장은 7일 이같은 합의 내용을 담은 합의의사록(ROD)에 최종서명했다.

<김성욱 기자>