1GD램 국제공동연구추진

[대전]1기가(G) D램급 반도체소자 개발에 필수적인 첨단 로광기술인 X선리소 그래피(회로인쇄) 및 X선 마스크 제작기술 분야에 대한 국제공동연구가 본격 추진될 전망이다.

한국전자통신연구소(ETRI) 반도체연구단(단장 박신종)은 오는 96년까지 1GD 램을 개발하기 위한 시험회로의 개발을 완료한다는 계획 아래 미국 위스콘신대학내 연구소인 CXrL 및 이탈리아 국책연구기관인 CNR산하 반도체 전문 연구기관인 IESS 등과 공동으로 X선 리소그래피 및 X선 마스크 개발을 위한 구체적인 협력방안을 모색하고 있다고 25일 밝혔다.

이에따라 이르면 다음달초 3개 기관의 대표자들이 참석한 가운데 공동 연구 에 필요한 제반사항을 담은 "3자간 국제공동연구계약"이 체결될 전망이다.

X선리소그래피 기술은 현재 반도체소자 제조공정중 미세회로 형성에 핵심적 인 역할을 수행하고 있는 광리소그래피를 대체해 2백56MD램급 이상 초고집적 소자를 제작할 때 필수적으로 이용되는 첨단 로광기술이다.

ETRI는최근 0.18미크론 디자인 룰을 이용해 1GD램급 미세 금속산화막반도체 MOS 트랜지스터의 시험제작에 착수하는 등 1GD램급 이상의 반도체 소자 개발을 위한 국제공동연구에 대비한 기반기술 구축을 적극 추진해 왔다.

국제공동연구로추진되는 기술은 싱크로트론(SOR)을 사용한 X선로광기술.X선 마스크 제작 및 결합제어기술.멤브레인 변형에 의한 정렬정밀도 저하 방지기 술 등으로 미국의 CXrL과 CNR-IESS는 이 분야에 대한 세계적인 연구 기관으로 평가받고 있다.

따라서ETRI는 이번 국제공동연구를 통해 양기관이 오랜 기간 동안 축적해온X선 리소그래피기술 및 X선마스크 제작기술을 단기간내에 효율적으로 확보함 으로써 1GD램급 소자 제작에 활용가능한 기초기술을 조기에 확보할 수 있을것으로 기대하고 있다.

한편ETRI는 앞으로 1년동안 공동연구를 추진, 구체적인 성과를 검토한 뒤 연구결과에 따라 연구기간을 연장하거나 일본 등 다른 선진국과도 공동 연구 를 추진하는 방안을 마련하는 등 협력대상 범위를 점차 확대해 나갈 방침이 다.