국힘 “산업 스파이, 엄격한 처벌 필요…中 정부도 방지책 마련해야”

국민의힘이 삼성 반도체 핵심기술 유출 사건과 관련해 산업 스파이에 대한 엄격한 처벌이 필요하다고 밝혔다. 그러면서 중국정부를 향해서도 방지책 마련을 촉구했다.

국민의힘 윤희석 대변인은 13일 논평을 통해 “우리 기업에서 기술을 축적하며 대우받다가 한순간에 국부를 중국에 팔아먹는 사실상의 산업 간첩행위를 자행한 것”이라며 이같이 밝혔다.

Photo Image
12일 오전 경기도 수원시 영통구 수원지방검찰청에서 박진성 방위사업·산업기술범죄수사부장이 반도체공장 설계자료 해외유출사건 중간 수사결과를 발표하고 있다.

전날 검찰은 삼성전자와 SK하이닉스 임원을 거친 한 반도체 전문가를 국내 기술 유출 등의 혐의로 기소했다. 삼성 반도체 공장을 그대로 복제해 중국에 세우려 했던 것이다. 실제 공장이 지어지지는 않았지만 빼돌린 기술만으로도 예상 피해액이 9조 원을 넘는 것으로 알려졌다.

윤희석 대변인은 “공장의 설계 도면을 비롯해 클린룸 조성 조건, 공정 배치도 등 국가 핵심기술을 빼돌렸다는 사실만큼 충격적인 것은 해당 인물이 삼성전자 등에서 30년 이상 근무한 국내 반도체 제조 분야의 권위자라는 것”이라며 “우리 기업에서 기술을 축적하며 대우받다가 한순간에 국부를 중국에 팔아먹는 사실상의 산업 간첩행위를 자행한 것”이라고 말했다.

그러면서 “특히 반도체 분야에서 치열한 경쟁을 펼치고 있는 중국에서 우리의 핵심 인력을 빼 가면서 우리 기업이 엄청난 돈과 시간을 투자해 쌓은 기술이 순식간에 새 나가는 일이 반복되고 있다”며 “중국 산업계는 타국의 기술을 탈취하는 파렴치한 행위를 즉각 중단하고, 중국 정부도 마땅히 정부 차원의 방지책을 마련해야 한다”고 강조했다.

아울러 최근 8년간 기술 유출 범죄로 징역형을 선고받은 이들 중 약 80%가 집행유예로 풀려난 만큼, 기술 유출 사건에 대한 우리의 미온적 대응에 대해 되돌아봐야 한다고 주장했다.

윤희석 대변인은 “기술·인재 유출을 방치하고 솜방망이 처벌만 하다간 대한민국의 미래를 지켜낼 수 없다”며 기술 유출 범죄에 대해 양형 기준 강화 등 법적, 제도적 장치 마련의 필요성을 강조했다.


성현희 기자 sunghh@etnews.com


브랜드 뉴스룸