제덱스(대표 김진호)는 ‘제3회 TCM(Total Cleanliness Management)및 TCC(Total Contamination Control) 세미나’를 오는 22일 개최한다고 1일 밝혔다.
전자, 전기, 정밀산업에서 불량 원인 1위로 꼽히는 이물(異物)과 파티클(Particle:아주 작은 입자)을 줄여주는 방안을 소개하는 세미나다. 반도체 후공정과 카메라 모듈, PCB, TSP, MEMS 등 정밀전자와 전자부품 관련 기업에 유용하다. 참가 희망자는 오는 20일까지 홈페이지(www.cleanroom.org)에 신청하면 된다. 제덱스는 지난 1월과 2월에 반도체, 디스플레이 산업 FAB 공정을 대상으로 1회와 2회 세미나를 개최했다. 당시 80여 기업에서 200명 넘게 참석했다.
3회 세미나에도 김진호 제덱스 대표가 강사로 나선다. 김 대표는 “이물과 파티클은 불량을 일으키는 요소 중 부동의 1위”라며 “그동안 제대로 된 교육 기회가 부족해 세미나를 열게 됐다”고 밝혔다. 김 대표는 “1, 2회 세미나때 다양한 질의응답이 오가는 등 반응이 좋았다”며 “앞으로 업종별, 요구 수준별 다양한 과정을 만들어 교육을 시행할 계획”이라고 덧붙였다.
김 대표는 1983년 삼성전자(반도체)에 입사한 이래 30여년 이상을 반도체 산업과 크린룸 산업에 종사해온 오염제어 분야 전문가다. 제덱스는 반도체 CVD, ETCH 장치 샤워 헤드(Shower Head) 등 홀(Hole) 형성 부품의 홀 부분 입자를 검사하고 크리닝하는 설비를 2014년 개발해 공급하고 있다. 반도체와 디스플레이 등 첨단산업에 요구되는 방진의류와 청정용품 평가장치도 개발해 국내 반도체 소자와 관련 업체에 공급한다. 이 외에도 오염제어 관련 컨설팅과 현장지도, 크린룸 유지보수 및 관리, 평가 등 종합서비스를 제공하고 있다. 독립적 파티클 랩(Particle Lab) 서비스도 제공한다. 올 1월에는 교육사업부를 신설해 ‘파티클 스쿨(Particle School)’을 상표로 출원하는 등 교육사업을 강화하고 있다.
방은주기자 ejbang@etnews.com
