10㎚ 이하 나노금형(몰드) 패턴을 값싸게 반영구적으로 만들 수 있는 원천소재가 국내 연구진에 의해 개발됐다.
한국전자통신연구원(ETRI·원장 김흥남) RFID·USN 소자팀(팀장 도이미)은 지식경제부 지원을 받아 머리카락 굵기의 1만분의 1에 해당하는 10㎚ 이하로 패터닝이 가능한 나노 금형을 기존 대비 10분의 1 비용으로 대량 복제할 수 있는 원천 소재를 개발하는데 성공했다고 24일 밝혔다.
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이 연구 결과는 영국왕립화학회서 발행하는 신소재·재료 분야 국제 학술지인 `저널 오브 머티리얼스 케미스트리` 뒷장 표지논문으로 게재됐다.
기술개발자인 이봉국 연구원은 “이 소재를 이용해 한국과학기술연구원의 정연식 교수 연구팀이 제작한 8㎚급 블록공중합체 마스터 나노 금형을 이용해 곡면 미세 패턴까지 형성하는데 성공했다”며 “나노금형 복제의 문제점인 패턴 마모를 해결했다”고 말했다.
연구진은 유무기 하이브리드 재료의 일종인 실세스퀴옥산 구조를 기반으로 한 나노복합재료를 만들었다. 이 소재는 분자나 고체 표면 물분자와 결합이 어려운 정도를 나타내는 `소수성`이 뛰어나고 끈적거림이 거의 없는 것이 특징이다. 이는 이형제를 처리하지 않아도 쉽게 패턴 분리가 된다는 것을 의미한다.
도이미 팀장은 “고가의 극자외선(EUV) 장비를 사용하는 공정 대신 단시간 내에 저비용으로 대량 생산이 가능해진다”며 “전 세계적으로 미국, 일본 등 소수 국가만이 보유하고 있는 고난이도 기술”이라고 밝혔다.
대전=박희범기자 hbpark@etnews.com