한국과학기술원(KAIST)이 고효율 플렉시블 디스플레이 기술 개발에 성공했다.
고승환·양동열 KAIST 기계공학과 교수팀은 이른바 펨토초(1조분의 1초) 이하 단위 레이저 소결 공정을 이용해 수백나노 단계에 걸쳐 이뤄지던 금속 패턴을 단일 공정으로 압축해 제작했다고 2일 밝혔다.
종전에는 플렉시블 전자소자나 디스플레이를 제작하기 위해서는 진공 상태에서 광식각 공정을 이용해 수십, 수백단계를 거쳐 패턴을 만들어야 했었다. 그러나 이번에 개발한 펨토초 레이저 소결공정을 이용하면 비용과 시간을 획기적으로 줄일 수 있다.
고승환 교수는 “고가의 진공 전자빔 공정을 통해서만 제작할 수 있었던 디지털 직접 나노패터닝 기술을 진공이 아닌 저온 환경에 구현함으로써 전자빔 공정을 대체할 수 있게 됐다”고 말했다.
이번 연구결과는 재료과학기술 분야의 세계적 권위의 학술지인 `어드밴스트 머티리얼tm(Advanced Materials)` 7월호에 게재됐다.
대전= 박희범기자 hbpark@etnews.com
