포스텍(POSTECH) 대학원생이 기존 공정에서 3차원 나노소자의 집적화를 위한 기술을 개발, 국제학술대회에서 젊은 과학자상(Young Scientist Award)을 수상했다.
홍영준씨(28·신소재공학과 박사과정)는 3차원 나노집적소자에 응용 가능한 반도체 나노막대를 실리콘 기판의 원하는 위치에 수직으로 선택성장할 수 있는 기술과 원리를 개발, 최근 프랑스 스트라스부르에서 열린 ‘2007 유럽 재료공학연구학회(2007 E-MRS) 춘계 세미나’를 통해 발표했다.
홍씨는 질화갈륨 마이크로 패턴을 이용한 실리콘 기판에서의 비촉매 산화아연 나노막대의 위치조절 선택성장이란 논문을 통해 나노막대를 질화갈륨 마이크로 패턴을 이용해 실리콘 기판에 원하는 위치로 선택 성장하는 기술을 공개했다. 이 기술을 활용하면 대량 제작 공정에도 적용할 수 있어 3차원 나노소자의 집적화에 도움이 돼 소자의 집적도를 크게 높일 수 있을 것으로 기대된다.
한편, 유럽 재료공학연구학회 세미나는 2000여명의 관련 학자들이 참석, 700명 이상이 논문을 발표하는 권위 있는 행사로 홍씨가 수상한 상은 18개 분과에서 발표된 논문 중 가장 우수한 논문을 발표한 18명에게 수여된다.
대구=정재훈기자@전자신문, jhoon@
