ASML, 40나노 이하 반도체 노광장치 내년부터 출하

네덜란드의 반도체 장비업체 ASML이 회로선폭 40㎚ 이하를 지원하는 ‘반도체 제조용 노광장치’를 내년 중반부터 시장 출하한다고 발표했다.

13일 아사히신문에 따르면 ASML은 렌즈와 웨이퍼 사이를 순수한 물로 채우는 액투기술 및 NA(밝기) 1.35의 환경에서 업계 최고의 성능을 확보한 렌즈를 개발했다.

최근 일본의 니콘이 NA 1.30의 렌즈로 45㎚를 지원하는 제품을 출시했지만 40㎚ 이하는 ASML이 처음이다. 이에 따라 반도체 노광장치시장 패권을 놓고 ASML과 니콘의 한 판 승부 마저 예상된다.

ASML이 발표한 ‘XT1900i’는 광원이 불화알곤엑시마레이저로 40㎚에서 양산, 36㎚ 정도까지의 연구개발을 대상으로 한다. 웨이퍼 처리능력은 매 시간 131장(1장 125회 노광시)이며 가격은 아직 미정이다.

ASML은 45㎚ 지원 ArF액침노광장치 ‘XT1700i’를 출하한 상태지만 이 기본 구조를 이용해 XT1900i를 개발했기 때문에 1700i 장치 성능에 따라서는 1900i 장치 도입도 빨라질 수 있을 것으로 기대하고 있다.

명승욱기자@전자신문, swmay@