이머전 리소그래피 기술 출원 활발

　 단순히 물만 부어주면 반도체 회로를 작게 줄일 수 있는 이머전(immersion) 리소그래피 관련 기술의 특허 출원이 활발하다.

26일 특허청에 따르면 지난 2002년부터 유럽연합(EU), 일본, 독일 등에서 본격 개발된 이머전 리소그래피 관련 기술이 국내에선 2003년 이후 출원되기 시작해 2005년까지 최근 3년간 총 163건이 출원됐다.

이 기술은 불순물이 제거된 물 속에서 레이저를 이용해 반도체에 회로를 그리는 것으로, 물에 굴절된 빛이 더욱 섬세한 회로를 그릴 수 있도록 해 준다. 전체 출원건 가운데 단순 리소그래피 장치 유사 관련 기술을 제외한 핵심 이머전 리소그래피 관련 기술은 전체의 61.3%인 100건을 차지했다.

출원인별로는 외국 기업이 전체의 72%를 차지한 반면, 국내 기업은 28%에 머물렀다.

업체별로는 국외 기업으로 일본 니콘, 캐논 등이 노광장치 및 디바이스 제조 관련 기술에 집중하고 있는 반면, 도쿄오카공업, 신에쯔공업 등은 레지스트 재료 관련 기술에 주력하고 있는 것으로 분석됐다.

국내기업으로는 동진세미켐이 이머전 리소그래피 전용 레지스트 재료에, 하이닉스는 레지스트 재료 및 노광장치 관련 기술에 각각 집중하고 있는 것으로 나타났다.

특허청 관계자는 “이머전 리소그래피를 이용한 기술은 국내외 반도체 산업계에서 기존 사진 현상 방식의 미세화 한계점을 극복하기 위해 개발한 차세대 기술로, 오는 2009년에는 상업용으로 생산될 것으로 전망된다”고 말했다.

대전=신선미기자@전자신문, smshin@