반도체·디스플레이 차세대 핵심기술인 단원자층 증착기술(ALD)분야의 한국 전문가들이 한자리에 모인다. 한국은 세계 ALD 기술분야에서 주도권을 잡고 있어, 이 행사는 자연스럽게 국제 행사로 발전될 전망이다.
ALD학회(회장 전형탁·사진)는 오는 28일 단원자층 증착기술에 관한 워크숍인 ‘한국ALD2006’을 한양대에서 개최한다고 24일 밝혔다.
이 자리에는 삼성전자·하이닉스·삼성SDI·주성엔지니어링·IPS 등 업계와 ETRI·삼성종합기술원·포스텍 등의 학계 전문가들이 대거 참여해 차세대 반도체 및 디스플레이분야 핵심기술로 부상하는 ALD 전반에 대해 논의한다. 이미 국내는 삼성전자·하이닉스 등 반도체 업계는 물론 학계에서도 이미 세계를 주도해 나갈 단원자층 증착기술을 보유하고 있는 등 ALD 기술을 주도하고 있다.
단원자층 증착기술(ALD)은 기존의 물리적 기상 증착방식(PVD)이나 화학적 기상 증착방식(CVD)에 비해 박막에 가해지는 충격이 적고, 불순물의 함유량이 적을 뿐 아니라 나노미터 이하의 두께를 제어하면서 증착이 가능한 것이 특징으로, 차세대 반도체공정에서 필수적인 기술로 떠오르고 있다.
전형탁 ALD학회장은 “한국ALD워크숍은 ALD분야 한국 연구자들의 모임으로서 한국의 저명 과학자들의 수준높은 연구 결과를 발표하는 자리”라며 “특히 ALD 분야는 한국의 연구 수준이나 결과가 바로 세계적인 수준이기 때문에 한국 연구자간의 교류는 세계 주도권 유지에도 큰 도움이 된다”고 말했다.
심규호기자@전자신문, khsim@
