하이닉스가 올해 3조6000억원을 투자한다. 2001년 현대전자에서 하이닉스반도체로 이름을 바꾸며 반도체 전문회사로 출범한 이후 최대 규모다.
하이닉스반도체(대표 우의제)는 25일 열린 기업설명회에서 올해 본사에 2조3000억원, 중국 법인에 1조3000억원을 포함해 3조6000억원을 투자할 계획이라고 밝혔다. 이는 지난해 2조2000억원보다 64% 늘어난 것으로, 2001년과 비교하면 무려 12배 증가한 것이다.
이에 따라 하이닉스는 경쟁사 대비 투자 위축으로 장기적인 성장 기반 마련이 어려울 것이라는 업계 기우를 불식하며, 올해부터 투자를 바탕으로 한 탄탄한 성장세를 지속할 것으로 기대된다.
하이닉스가 올해 본사에 투자하는 2조3000억원은 팹 공정 개선에 약 60%, 후공정과 장비 분야에 15∼20%, 차세대메모리 개발 및 R&D 라인 건설 등 R&D 분야에 5∼10% 사용할 계획이다. 또 중국 법인의 1조3000억원은 공장 건설비용과 설비투자에 활용될 전망이다.
이와 함께 하이닉스반도체는 지난 4분기 영업이익률 31%를 기록하며 삼성전자(영업이익률 32%)와 함께 업계 최고 수준의 경쟁력을 확보한 것으로 나타났다. 4분기 영업이익은 전 분기 대비 6% 늘어난 5220억원으로, 2003년 3분기 이후 10분기 연속 흑자를 실현했다.
하이닉스의 지난 한 해 전체 실적은 매출 5조7530억원, 영업이익 1조4300억원, 순이익 1조8170억원을 기록했다. 이는 전년 대비 매출과 영업이익은 각각 2%, 23% 감소했지만 순이익은 7% 증가한 것이다.
심규호기자@전자신문, khsim@
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