후지쯔, 1200억엔 투자해 시스템LSI 공장 건설

　후지쯔가 1200억엔(1조2000억원) 이상을 투자해 일본내 회로선폭 65㎚ 첨단 반도체 공장을 건설한다고 니혼게이자이신문이 12일 보도했다.

후지쯔는 이날 오는 2007년까지 2년 동안 미에현에 시스템LSI 공장을 세운다고 발표했다. 2007년 4월 가동이 목표며 해외 반도체업체 등으로부터 시스템LSI 제조를 수탁할 계획이다.

신 공장은 현 미에공장의 신규 2라인으로 2007년 하반기에 300㎜ 웨이퍼 환산 월 1만장의 생산 능력을 확보하게 된다. 또한 향후 순차적으로 생산 능력을 월 2만5000장까지 끌어 올릴 예정이다.

후지쯔가 지난 해 4월부터 가동한 제1라인은 회로선폭 90㎚ 생산라인이 중심으로 현재 월 생산 능력이 3000장에 불과하다. 올해 안에 월 1만5000장 풀 가동될 전망이지만 최근 수탁사업이 호조를 보여 추가 투자가 불가피하다고 판단했다.

후지쯔는 평판 패널 사업에서 철수하는 한편 반도체 및 디바이스 관련 사업으로 선택과 집중을 노린다는 전략이다.

명승욱기자@전자신문, swmay@