[IT키워드]나노임프린트리소그래피

　나노임프린트 리소그라피(NIL:Nanoimprint Lithography)란 나노 수준의 정밀한 금형을 만들어 미세한 패턴을 형성하는 기술로, 기판 위에 열가소성 수지나 광경화성 수지를 도포한 다음 압력을 가해 마치 도장을 찍듯 패턴을 전사하는 공정이다. 1996년 프린스턴대학의 초우 교수가 제안했으며 경제적이면서 효과적으로 나노구조물을 제작할 수 있는 기술로 인정받고 있다.

　나노임프린트 리소그라피 기술은 스탬프로 열가소성 재질의 레지스트가 코팅되어 있는 기판 표면을 유리전이온도 이상의 고온조건(150℃ 내외)에서 고압(10∼30bar)으로 누른 후 냉각시켜 분리하는 가열식 나노임프린트 공정과 저점성 광경화성 수지와 자외선을 사용하는 자외선 나노임프린트 공정으로 나뉜다.

　최근 이응숙 한국기계연구원 박사팀은 세계 최초로 대기압 상태에서 대면적(5인치 이상 크기)의 스탬프를 사용한 자외선 나노임프린트 공정 기술을 개발해 국제 SCI급 저널인 마이크로일렉트로닉 엔지니어링 표지논문에 소개된 바 있다.