日, 차세대 반도체 개발 착수

일본이 내년부터 오는 2010년까지 세계 반도체 기술을 선도할 차세대 반도체 개발에 착수한다.

13일 니혼게이자이신문에 따르면 일본전자기술산업협회(JEITA)는 ‘차세대 반도체 연구개발(R&D) 체제’라는 프로젝트를 정부와 공동으로 가동, 오는 2006년부터 2010년까지 5년 동안 연간 약 150억엔씩 총 750억엔을 투입할 계획이다. 이 프로젝트는 특히 45㎚와 35㎚ 이하 차세대 반도체를 개발하는데 중점을 둔다.

일본 반도체산업협회 산하 연구단체인 반도체신세기위원회(SNCC)의 제안을 토대로 기획된 이 프로젝트는 JEITA 산하 반도체집행위원회에서 진행 중인 ‘아스카 프로젝트’와 경제산업성·도시바·후지쯔 등 민간기업 25개사가 공동으로 추진 중인 ‘미라이프로젝트’와 연계, 추진되는 명실상부한 범국가 프로젝트다. 본격 시작은 내년 4월부터 이며 추진 기관은 아스카 조직인 셀레트(Selete)와 미라이가 공동으로 맡는다.

연구도 아스카와 미라이에 참여한 쓰쿠바 연구소의 슈퍼클린룸 주축으로 이뤄지며 주로 극자외선(EUV) 등 첨단 기술을 활용한 반도체 기술 확보에 초점이 맞춰진다. 이번 프로젝트는 반도체 각사들의 비즈니스 모델이 다양해지고, 또 기존 반도체 개발 컨소시엄의 기대치가 변하고 있다는 점을 감안한 국가 프로젝트로 일본 반도체 산업에 새로운 활력소로 작용할 전망이다. 일본 정부와 업계는 미라이에 이은 선폭 45㎚ 이하 프로세서의 실현은 전자산업 기반을 지탱하는 반도체 산업의 국제 경쟁력을 높여주는 계기가 될 것으로 전망하고 있다.

　프로젝트의 구체적인 중점 추진 과제는 △셀레트(Selete)의 45nm, 32nm 애플리케이션 개발 △리서치센터 STARC의 DFM 플랫폼 디자인 개발 등이다.

반도체집행위원회 토사카 카오루 위원장은 “새 프로젝트는 미라이 프로그램과 밀접하게 연계된다”면서 “가능한한 많은 업체를 참여시킬 계획이지만 외국계업체의 참여는 제한하기로 했다”고 밝혔다. 일본반도체협회(SJIA) 회장인 이토 사토루 르네사스 최고경영자(CEO)는 “일본 반도체업체들이 세계 시장에서 기술적 선두 지휘를 차지하기 위해 노력하고 있다”면서

　“새 프로젝트는 이를 달성하는데 많은 도움을 줄 것”이라고 설명했다.

　 명승욱기자@전자신문, swmay@