IBM·돗판인쇄, 45㎚ 반도체용 포토마스크 공동 개발키로

　IBM과 돗판인쇄가 45㎚(나노미터, n=10억분의 1) 반도체 제조에 사용되는 최첨단 포토마스크(회로원판)를 공동 개발키로 했다고 니혼게이자이신문이 19일 보도했다.

　IBM과 돗판인쇄는 오는 2007년까지 총200억엔(약 2000억원)을 연구개발(R&D)비로 투입해 회로 선폭 45㎚ 반도체 양산에 필요한 포토마스크를 만든다는 계획이다. 돗판인쇄는 포토마스크 분야 세계 1위업체다.

　포토마스크는 실리콘 웨이퍼에 회로를 붙이는 원판으로 반도체 제조에 있어 필수 불가결한 재료다. 돗판인쇄는 IBM의 버링톤 공장에 기술자를 파견, 공동 개발을 진행하는 동시에 사이타마현 공장에 개발비와는 별도로 약 100억엔을 투자해 2007년부터 포토마스크 양산 체제에 들어갈 계획이다.

　포토마스크 세계 시장은 연간 약 3000억엔 규모로 돗판인쇄가 30%를 차지하고 있다. 올 4월에는 영국 듀폰사의 자회사를 약 680억엔에 인수했다.

　한편 이 분야 2위업체인 다이닛폰인쇄는 최근 인텔과 공동으로 45㎚용 포토마스크 개발에 착수했다.

명승욱기자@전자신문, swmay@