반도체 `황사방지` 특허출원 활발

반도체 업체들이 반도체 생산공정에 치명적인 황사 오염을 막기 위한 기술 개발에 박차를 가하고 있다.

　7일 특허청에 따르면 황사 오염방지 기술과 관련한 특허가 1999년 16건, 2001년 29건, 2003년 14건 등 최근 5년간 총 110건이 출원됐다.

　이는 환경부에서 발표한 연간 황사 발생 일수와 추세적으로도 비례하는 경향을 보이고 있다. 특히 다른 해보다 연간 황사 일수(10일)가 가장 많았던 2000년에는 관련 방지 기술이 29건이나 출원된 반면 황사 발생일수(3일)가 적었던 지난해는 14건으로 출원이 급격히 줄어든 것으로 나타났다.

　세부 기술별로는 에어 샤워와 에어 건, 에어 노즐 기술 등 출입자 및 반입자재의 오염을 방지하기 위한 기술이 51건으로 가장 많았다.

　공정실로 유입되는 기체 오염을 방지하기 위한 송풍장치 및 필터 관련 기술은 39건이 출원됐으며 웨이퍼 수납 용기 오염 방지 기술 출원도 20건이나 됐다.

　고준호 반도체심사담당과장은 “반도체 업계들이 황사 피해를 줄이기 위한 대책 마련에 고심하고 있다”며 “올해도 황사 현상이 극심할 것으로 예상됨에 따라 반도체 생산라인 관련 오염방지 기술 출원이 증가할 것으로 보인다”고 말했다.<대전=신선미기자 smshin@etnews.co.kr>