듀폰포토마스크, 0.13㎛ 공정 포토마스크 생산설비 하반기 도입

　포토마스크 생산업체 듀폰포토마스크(대표 박근원 http://www.photomask.com)는 경기도 이천공장에 회로선폭 0.13미크론(1㎛은 100만분의 1m) 기술을 마스크상에 구현할 수 있는 신규장비를 하반기께 도입한다고 28일 밝혔다.

　이를 위해 최근 본사 담당자가 내한해 이천공장은 물론 주요 고객사인 삼성전자와 하이닉스반도체 실무진들과 논의했으며 장비 발주를 위해 모 장비업체와 접촉중이다.

　신규 도입될 장비는 월 60∼100장의 포토마스크 생산능력을 갖추고 있으며 반도체시장 회복시점과 맞춰 본격적인 양산에 들어갈 계획이다.

　한국내 마케팅을 담당하고 있는 김홍석 이사는 “포토마스크 구현기술이 현재 0.18미크론에서 0.13미크론 공정으로 급속하게 전환되고 있다”며 “새 장비가 들어오면 내년 상반기께는 양산체제를 갖출 수 있을 것”이라고 말했다.

　듀폰포토마스크는 미국 듀폰이 33%의 지분을 갖고 있는 회사로, 올해 약 850억원의 매출을 목표로 하고 있다.

<손재권기자 gjack@etnews.co.kr>