<한국반도체산업대전2001>전공정장비출품업체:한국디엔에스

　◆한국디엔에스-포토설비



　한국디엔에스(대표 박창현 http://www.kdns.co.kr)는 이번 전시회에 스피너, 웨트스테이션 ‘K-WET300’, 스핀 스크러버 ‘K-SCRUBBER12’, 스핀에처 ‘SPE300S’, STN 풀라인 시리즈 등을 출품한다.

　이 중 이 회사가 국내 최초로 개발에 성공한 차세대 300㎜ 웨이퍼용 전공정 포토설비인 스피너(모델명 K-SPIN12)는 포토공정(photo lithography)에 사용되는 핵심설비로 웨이퍼 표면에 고집적 미세회로를 형성하기 위해 감광액을 도포하고 노광후 형성된 패턴을 현상하는 설비다.

　3년간 총 개발비 100억원이 투입, 제작된 K-SPIN12는 코터와 디벨로퍼 영역을 차단하는 상하 적층구조로 각각의 영역에 별도의 베이크 유닛과 반송로봇을 배치하는 새로운 개념의 구조를 도입, 상호간 환경영향 최소화 및 생산성 향상을 실현했다.

　특히 이 제품은 1G급의 집적도를 결정하는 회로선폭의 품질향상을 위해 멀티존 히터방식을 채택, 핫플레이트의 온도균일도를 기존 제품보다 두배 이상 향상시켰다. 또 256M급 및 1G D램급 차세대 공정에서 요구되는 케미컬 오염관리, 난반사 억제용 ARC 코터 유닛, 고정도 베이크 유닛 등을 내장하고 있다.

　함께 출품된 웨트스테이션 ‘K-WET300S’는 웨이퍼를 세정·수세·건조하는 자동 세정장비로 웨이퍼를 하프 피치로 26∼52장 동시처리가 가능하며 생산성을 시간당 170장으로 향상해 설비효율을 높였다.