[IMID 2001]분야별 논문발표 동향-장비

　IMID2001에서 장비분야 섹션을 별도로 마련한 것은 특기할 만하다. 빠르게 발전하는 디스플레이 산업에서 경쟁력을 확보하기 위해서는 장비개발의 중요성을 인식해야 한다는 의미다.

　장비분야에서 발표되는 논문은 구두 발표 6편과 포스터 발표 4편 등 총 10편이며 나라별로는 일본 3편, 미국 1편, 한국 6편으로 나뉜다.

　이 중 절반은 측정분야, 절반은 제조분야 장비의 소개인데 측정분야는 주로 이미 양산화가 완전히 이루어진 LCD 및 액정용 장비에 집중돼 있고 제조분야는 유기EL, LCD, FED, PDP 등 다양한 분야의 장비를 포함하고 있다.

　특히 제조장비 분야에서는 LCD의 대형화 공정기술 확보와 PDP의 양산화 및 가격경쟁력 확보를 위한 장비기술 발표가 눈에 띄며 OLED나 FED 같은 새로운 디스플레이 소자와 관련해서는 파일럿 생산장비 수준의 기술개발 확보를 위한 논문 발표가 주를 이룬다.

　일본에서 초청돼 소개되는 PI-체커는 LCD 패널의 폴리마이드 얼라인먼트 표면 측정장치로 10㎛ 스폿 사이즈의 해상도를 가지고 있어 전극상의 층에서 픽셀 각각의 다양한 변수들을 측정할 수 있다. 네마틱 액정 셀 안에 있는 이온 불순물의 이동성을 측정하는 장치도 소개된다.

　이밖에 10㎛ 이하의 낮은 셀 갭에 대해서도 폴리마이드의 기울기를 정확히 측정하는 새로운 방법과 함께 정확도 및 재현성에서 우수한 것으로 평가받는 나노 스케일 측정장치에 대해서도 발표된다.

　제조기술 분야에서는 최근 관심이 집중되고 있는 유기EL 패널 인라인 제조장비가 소개된다. 또 AMLCD의 대형화 추세에 발맞춰 1×1m급 이상의 기판에 대해서도 Si, SiN, SiON 등의 다양한 박막을 입힐 수 있는 5세대 PECVD 장치가 소개된다.

　양산경쟁이 뜨거운 벽걸이 TV용 PDP분야에서는 생산성과 수율 향상에 영향을 주는 진공배기 및 봉착기술에 대한 개선노력으로 기존의 배기관을 통한 배기방식 외에 진공로 내에서 진공 인라인 방식으로 배기시키는 기술 및 장치개발 사례가 발표된다.

　이밖에 저압 공정에서도 높은 식각률과 균일도를 자랑하는 ICP 플라즈마 소스의 개발사례와 200W 이하의 낮은 에너지에서도 높은 플라즈마 밀도를 발생시켜 우수한 식각률을 얻을 수 있는 고밀도 할로 캐소드 플라즈마 에칭장비의 개발 및 이를 응용한 FED용 Si 에미터의 제조사례가 발표될 예정이다.

<정진영기자 jychung@etnews.co.kr>