셀라이트, 반도체용 화학물질 오염 자동측정장치 개발

셀라이트(대표 홍성균 http://www.selight.co.kr)는 지난 2년의 연구 끝에 반도체 제조공정에서 사용되는 화학물질의 오염을 자동측정하는 장치(모델명 TIMS-2000)를 개발했다고 28일 밝혔다.

이 회사의 한 관계자는 『지금까지는 웨트공정에서 화학물질의 오염문제가 발생해도 작업을 중단할 수 없어 막대한 손해를 감수해야 했으나 이번 TIMS-2000 개발로 화학물질의 오염여부를 실시간으로 자동측정, 분석해 오염물질 발생 즉시 작업을 중단할 수 있어 생산손실을 사전에 막을 수 있게 됐다』고 설명했다.

TIMS-2000은 반도체의 핵심 제조공정 중 하나인 웨트공정시 사용되는 각종 화학물질의 금속이온 오염을 자동으로 측정, 화학물질의 수명을 최적화함으로써 반도체 생산수율을 극대화시키는 장비다.

이 제품은 또 메모리와 비메모리의 구분 없이 모든 반도체의 생산에 사용할 수 있으며 차세대 300㎜ 웨이퍼 공정에서도 적용이 가능하게 설계됐다.

셀라이트는 최근 국내 반도체 제조업체에서 제품의 양산적합성 평가를 성공적으로 마치고 다음달까지 4대를 공급하기로 했으며 일본의 웨트공정 장비업체와 공급을 협상하고 있다.

이 회사는 이 장비에 대해 국내 및 대만·일본·미국·유럽 등지에 특허를 출원한 가운데, 올해 70억원의 공급실적을 올리고 2002년부터는 연간 200억원 이상의 매출이 무난할 것으로 예상하고 있다.

<온기홍기자 khohn@etnews.co.kr>