일본 코마츠(Komatsu)의 반도체장비를 공급하는 미산인터내셔날(대표 박상민 http://www.misanltd.co.kr)은 웨이퍼(wafer)에 패턴을 노광시켜주는 Deep UV 스테퍼(stepper)와 스캐너(Scanner)의 노광원으로 사용되는 엑시머레이저(Excimer Laser·모델명 G21K)를 이달중 출시한다고 10일 밝혔다.
이번에 공급할 「G21K」 레이저는 고감도 감광제(resist)에 대응하고 스캐너 노광장비의 웨이퍼 처리 매수(Throughput)를 향상시킬 수 있는 레이저 조사량의 안정성(Laser Dose Stability)을 기존 ±0.4% 이하에서 ±0.35% 이하로 개선했다.
또한 엑시머레이저 파장의 선폭(Spectral Bandwidth)도 기존 0.6pm 이하에서 0.5pm 이하로 향상시켜 반도체장비의 설계규격을 만족시킬 수 있다.
마이크로리소그래피(Microlithography) 공정에 사용되는 불화크립톤(KrF)과 불화아르곤(ArF) 엑시머레이저를 제조하는 코마츠는 차세대 엑시머레이저인 2㎑급 ArF 레이저(모델명 G20A)의 개발·양산 준비를 마치고, 올해 1·4분기중에 국내 공급할 예정이다. 아울러 일본 정부의 지원아래 차세대 노광기술인 F2 레이저의 개발도 진행중이다.
한편 89년부터 일본·미국·유럽 지역의 각종 장비 등을 국내 반도체 칩 제조사에 공급해온 미산인터내셔날은 이를 바탕으로 향후 반도체 제조장비의 국산화에도 나설 계획이다.
<온기홍기자 khohn @etnews.co.kr>
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