반도체 공정시 발생하는 PFC 가스 세정장비 개발 잇달아

　국내에서 반도체 제조과정중에 사용하는 과불화화합물(PFC : Perfluorocarbons)가스를 제거하는 세정장비(Scrubber)의 개발이 활기를 띠고 있다.

　24일 업계에 따르면 케이씨텍·유니온산업·태양테크 등 반도체 관련 장비제조업체들은 전세계적인 환경규제에 대응해 반도체 제조공정에서 쓰이는 PFC가스를 분해해 대기중에 무해한 상태로 방출할 수 있는 PFC가스 스크러버를 개발했거나 막바지 테스트중이다.

　지난해 미국 리트마스가 PFC가스 스크러버를 처음 선보인 이후 미국밖의 지역에서 관련장비를 개발하기는 이번 국내업체가 처음이다.

　케이씨텍(대표 고석태)은 국책과제인 청정생산기술사업에 참여해 98년 하반기부터 5억원의 연구개발비를 들여 「PFC가스 처리용 플라즈마 세정시스템」을 개발, 국내 모 반도체업체에 제공해 시험중이다. 이 시스템은 플라즈마방식(ICP : Inductively coupled plasma)을 적용해 산화물 에칭공정 등에서 발생하는 PFC계열 가스인 SF6·NF₃는 물론 규제품목에 포함되지 않은 CF₄·C₂F6·C₃F8까지 분해, 제거한다.

　태양테크(대표 조현기)도 청정생산기술사업과제의 일환으로 8억원의 연구개발비를 투입해 최근 열분해 방식의 PFC가스 스크러버를 개발, 다음달부터 생산에 들어간다. 직접산화방식을 채택한 이 스크러버는 자가열원장치를 내장했으며 다른 반도체장비와 호환할 수 있도록 설계됐다.

　유니온산업(대표 김경균)은 98년 한국표준과학연구원과 공동으로 청정생산기술사업과제에 참여해 열분해방식의 PFC가스 스크러버를 개발중이며 상반기중으로 제품 개발을 완료할 계획이다. 이 회사가 선보일 스크러버 역시 SF6·NF₃외에도 CF₄·C₂F6·C₃F8도 분해, 제거할 수 있다.

　또 이들 업체는 이번 장비 개발의 후속 과제로 PFC가스가 재분해 후 냉각되면서 재결합하는 현상을 없앨 수 있는 기술 개발에도 착수했다.

　PFC가스는 지구온난화의 주범으로 지목돼 세계적으로 2010년까지 사용량을 10% 줄여야 하는 대기오염물질로 반도체 제조공정에서 쓰이고 있으나 지금까지 관련 세정장비가 나오기 않아 대기로 그대로 방출돼왔다.

　국제반도체환경안전회의(IESH)에서는 각국이 방출 규제를 합의한 SF6·NF₃외에도 CF₄·C₂F6·C₃F8 등으로 규제대상을 확대하는 방안을 논의하는 등 PFC계열 가스에 대한 규제 움직임이 활발하다.

온기홍기자 khohn @etnews.co.kr