어플라이드, CMP 새 모델 출시

　반도체 장비업체인 어플라이드 머티리얼즈 코리아(대표 이영일)는 구리 및 배리어층에 대한 평탄화 기능을 추가한 새로운 화학기계적연마(CMP) 장비 「Mirra Electra CMP」를 국내에 공급한다고 31일 밝혔다.

　이번에 출시된 CMP 장비는 다중 플래튼 구조로 설계돼 우수한 공정제어력과 생산성을 제공하며 자체 특허인 ISRM(In Situ Rate Monitor) 자동 종료 시점 감지 기술을 채택, 과도한 연마로 인한 구리 배선의 패임 현상을 사전에 방지했다.

　또한 가벼운 타이탄 헤드(Titan Head)를 장착함으로써 웨이퍼 전면의 평탄화 균일도를 높였으며 구리가 움푹 파이거나(Dishing) 산화막이 침식되는(Erosion) 등의 각종 문제도 해결했다.

<주상돈기자 sdjoo@etnews.co.kr>