신개념 웨이퍼 세정장비 "봇물"

반도체 제조과정에서 하나의 세척 용기로 전체 웨이퍼 세정 공정을 처리할 수 있는 단일 배스(Bath) 방식 웨트스테이션 장비의 출시가 잇따르고 있다.

22일 관련업계에 따르면 CFM, 슈테아그, 일드업 등 미국 및 유럽지역 장비업체들은 최근 기존의 다중 배스 방식 웨트스테이션 장비를 대체할 수 있는 새로운 개념의 웨이퍼 세정 장비들을 속속 선보이고 이의 본격적인 국내 공급에 나섰다.

단일 배스 방식 웨트스테이션 장비는 여러 개의 배스를 거쳐 웨이퍼를 세정하던 기존 방식과 달리 한 개의 배스내에 여러 장의 웨이퍼를 고정시킨 후 세척 단계별로 필요한 약품을 번갈아 주입해 웨이퍼를 세정하는 새로운 형태의 장비다.

이러한 단일 배스 방식은 기존보다 장비 사이즈를 획기적으로 줄일 수 있다는 장점을 지녀 현재 전체 반도체 생산라인의 30% 가량을 차지하는 웨트스테이션 장비의 점유 면적을 최소화할 수 있고 웨이퍼 세척시 기계적인 동작을 전혀 사용하지 않음으로써 이에 따른 웨이퍼 손상의 우려가 없다.

이에 따라 향후 건설될 신규 반도체 라인의 경우 단일 배스 방식 웨트스테이션 장비를 주력으로 채택할 가능성이 높으며 기존 생산 라인에 대한 보완 설비 투자시에도 이 장비를 도입하는 사례가 최근 크게 늘고 있는 추세다.

반도체용 포토마스크 제조업체인 피케이는 지난해 반도체 장비 사업에 신규 진출하며 미국 CFM社의 단일 배스 방식 웨이퍼 세정 시스템을 본격 국내 공급한 결과, 이미 국내 반도체 라인에 수십대 이상을 설치 완료한 것으로 알려졌다.

지난해 한국에 현지 법인을 설립한 독일 반도체 장비업체 슈테아그는 한개의 배스로 8인치 웨이퍼 50장을 한꺼번에 처리할 수 있는 차세대용 웨트스테이션 장비를 개발, 최근 국내 소자업체에 이를 시험 납품하는 등 본격적인 국내 공급 채비를 서두르고 있다.

또한 미국의 신생 반도체 장비업체인 일드업社는 자사 특허인 정전기를 이용한 세정기술을 통해 0.25미크론 이하의 미세 먼지까지 제거할 수 있는 새로운 개념의 웨이퍼 세정 장비를 개발하고 최근 장비 공급업체인 서전교역을 국내 대리점으로 선정하는 등 본격적인 한국시장 진출을 추진중이다.

<주상돈 기자>