CTC시스템 산학연 공동개발 시동

에처, CVD, 스퍼터 등 첨단 반도체장비의 핵심부품인 클러스터 툴 컨트롤러(CTC) 시스템이 정부와 업계가 공동 참여하는 산학연 프로젝트에 의해 개발된다.

3일 관련업계에 따르면 전자통신연구원(ETRI)과 반도체 장비업체인 아펙스,그리고 CTC 관련 소프트웨어 전문업체인 코닉시스템과 프로세스 모듈 컨트롤러 개발업체인 에이릭스는 정통부의 산학연 프로젝트 지원을 받아 차세대 반도체 장비용 CTC 시스템의 공동 개발에 본격 착수했다.

CTC 시스템은 반도체장비를 구성하는 웨이퍼 이송 및 챔버 관련 각종 모듈을 서로 조립하고 원할한 작동을 수행하는 로봇 및 컨트롤 시스템으로 최근 이러한 모듈 연결 및 조합을 통한 믹스 & 매치 방식의 장비 개발이 주종을 이루면서 주목받기 시작한 첨단 컨트롤 기술이다. 또한 이 시스템은 향후 멀티 챔버 및 3백㎜(12인치) 웨이퍼용 반도체장비 개발시 장비의 성능 및 양산라인에의 채용 가능성을 결정하는 핵심기술로 인정되면서 CTC 시스템에 대한 국내외 반도체장비 업체간 개발경쟁은 갈수록 치열해지고 있다.

이번 개발 프로젝트는 ETRI 및 아펙스가 전체 CTC 시스템에 대한 구성 및 적용 부분을 맡고, CTC 관련 소프트웨어 전문업체인 코닉시스템이 분산 제어 및 웨이퍼 이송에 대한 상위 컨트롤을, 그리고 에이릭스가 공정용 프로세서 모듈 관련 하드웨어 및 소프트웨어의 개발을 추진키로 했다. 이들 업체는 각 전문업체별로 역할을 분담하는 한편 개발 성공 가능성을 높이기 위해 CTC 소프트웨어 관련 기술을 보유한 해외 전문업체와의 기술제휴도 검토중인 것으로 알려졌다.

그동안 대부분의 국내 반도체장비 업체들은 CTC 시스템의 도입을 위해 브룩스 오토메이션의 로봇시스템과 RPI 또는 테크웨어의 프로세서 모듈 및 소프트웨어 기술 등을 서로 조합해 사용해 왔다.

이 프로젝트에 참여한 업체의 한 관계자는 『전체 반도체장비중 특히 전공정장비의 경우 CTC 시스템 기술의 보유는 필수적』이라고 밝히고 『따라서 최근들어 본격화되고 있는 국내 반도체 장비업체들의 전공정장비 개발 및 생산 움직임이 양산화 단계로까지 이어질 수 있도록 하려면 이러한 CTC 시스템의 개발이 선행돼야 하며 결국 이번 개발 프로젝트의 성공 여부가 향후 전공장 반도체장비 시장 진출의 성공 여부를 결정하는 주요 변수로 작용할 것』이라고 전망했다.

<주상돈 기자>