日소니, 0.25미크론급 반도체 생산라인 신설

일본 소니가 반도체생산자회사인 소니고쿠부社에 0.25미크론급 반도체생산라인을 신설, 시스템 LSI사업을 강화한다.

「日刊工業新聞」에 따르면 소니는 소니고쿠부공장에 단독공장 투자규모로는 최고액수인 5백억엔을 투자해 D램 온 칩을 중심으로 하는 시스템 LSI 개발, 생산체제를 구축한다.

소니가 고쿠부공장에 신설하는 라인은 8인치 웨이퍼를 사용하는 0.25미크론급 설비로 생산능력은 월 2만장규모이다. 소니는 올해안에 설비도입을 시작해 내년 중반부터 가동에 들어갈 계획인데 이 라인을 통해 D램을 내장한 MD용 신호처리 LSI 등을 양산할 방침이다.

소니가 새로 도입하는 0.25미크론급 라인은 D램의 세대별 기준으로 보면 2백56MD램급에 해당하는 최신 설비이다. 소니는 오키電氣와 공동으로 95년 5월부터 0.25미크론급 메모리 혼재 ASIC를 제조하는 프로세스 기술을 개발해 왔다. 새 라인은 이 기술의 실험무대가 될 전망이다.

반도체분야에서 중간급 업체인 소니는 D램 가격 급락으로 자사 주력제품인 표준 S램이 치열한 가격경쟁을 겪자 지난해 말 소니고쿠부공장에 0.35미크론급라인을 도입해 MOS로직 증산에 뛰어들었다.

최근 D램의 대용량, 소형화를 목적으로 하는 반도체업체들의 첨단 프로세스설비도입이 잇따르고 있다. 첨단 설비의 도입은 주로 대형업체들을 중심으로 진행되고 있으나, 최근 다양한 매크로 셀을 조합하는 시스템 LSI의 비중이 급속히 높아짐에 따라 중간급업체들로서도 최첨단설비의 도입은 피할 수 없는 상황에 직면해 있다. 소니의 경우 이번 0.25미크론 설비에 드는 투자비는 지난 0.35미크론 설비도입 당시의 약 1.6배인 것으로 알려지고 있다.

<심규호 기자>