아토, 97년 HDP용 CVD 본격 생산

반도체 장비업체인 아토(대표 오순봉)가 전공정장비인 CVD 생산에 본격적으로 나선다.

그동안 가스공급장치 생산에 주력해온 아토는 지난해부터 40억원을 들여 미국 P社, R社 등 해외 기술제휴처의 도움아래 추진해온 HDP(High Density Plasma) CVD장비 개발을 최근 완료하고 H社에 공급, 시가동중이라고 24일 밝혔다. 국내 장비업체가 선진 외국업체와 합작이 아닌 기술지원을 통해 전공정장비를 개발한 것은 이번이 처음이다.

아토는 이를 위해 총 50억원을 투자해 내년 3‘4분기까지 수원인근 비봉지역에 최고 클래스10 수준의 클린룸시설을 갖춘 3천평 규모의 CVD전용공장을 건설, 본격적인 조립생산에 들어갈 방침이다.

이 회사의 HDP CVD는 기존 열가열식 CVD와 달리 플라즈마를 이용한 전자공명장치(ECR)를 채용, 저온공정으로 선폭간의 확산방지와 전류 및 전압손실을 크게 줄여주는 등 보다 향상된 회로형성을 가능케 함으로써 2백56MD램 이상 차세대 반도체 공정을 위한 필수장비로 꼽히고 있다.

<김경묵 기자>