특허청, 의장출원공개제 도입

오는 7월1일부터 의장출원에 대한 공개제도가 새로이 시행된다.

9일 특허청은 의장출원후 등록을 하기 전이라도 제3자가 공개된 의장을 침해했을 경우 출원인이 그 침해자에 대해 보상청구권을 행사할 수 있도록 오는7월부터 의장출원 공개제도를 시행한다고 밝혔다.

특허청은 이를 위해 올 상반기중 의장법 시행령 등 하위법령의 개정작업을마무리할 계획이다.

지금까지는 의장권의 효력발생시점이 등록일로 돼 있기 때문에 출원에서등록까지의 약 1년동안에는 제3자가 모방 또는 도용을 할지라도 이를 규제할수 없다는 문제점이 지적돼 왔었다.

특허청은 의장법 개정에 따라 심사의 정확성 제고는 물론 의장출원후 사업착수가 가능케 됨에 따라 중소기업의 창업이 촉진될 수 있을 것으로 전망했다.

<조시룡기자>