CFC대체물질 연구개발 활발

국내에서도 오존층 파괴물질로 사용규제가 강화되고 있는 염화불화탄소(CFC )를 대체할 대체물질에 대한 연구개발이 90년 이후 활기를 띠고 있는 것으로나타났다. 16일 특허청에 따르면 90년 이전의 CFC 대체물질 출원은 듀폰(미)을 비롯 아토상 불 .ICI 영 .다이킹 일 .오시몬트 이 등 외국의 다국적기업에 의한 것이 주류를 이루었으나 90년9월 한국과학기술연구원(KIST) "CFC 대체기술센터 " 설립을 계기로 국내 연구소.기업체들의 연구개발이 활발하게 이뤄지고 있다는 것이다.

이에 따라 90년 이전까지 전체 33건의 출원중 불과 2건(6%)에 그쳤던 내국 인의 출원(누계)은 94년7월말 현재 전체 97건중 18건을 차지, 18.6%의 높은출원비율을 나타냈다.

내국인에 의해 출원된 CFC 대체물질 18건은 HCFC-123.124, HCFC-141b.142b 등 HCFC계열(염소원자 포함)과 HFC-134a 등 HFC계열(염소원자 미포함) 등으로 오존층을 파괴하지 않거나 파괴능력이 현저히 낮아 냉매.발포제.분산제.

세정제등 다양한 용도로 사용할 수 있는 것으로 알려졌다.

국내기업들의 개발현황을 보면 울산화학이 지난해 HCFC-141b.142b를 개발 , 95년 상반기중 상업화를 앞두고 있는 것을 비롯 KIST가 HFC-134a를 개발 , 98년 이후 상업화를 추진하고 있으며 또 KIST와 한국신화가 HCFC123.124 , HCFC-125, HCFC152a 등을 개발, 양산을 서두르고 있다.

이밖에 삼성전자와 한국포리올이 올초 사이클로펜탄을 발포제로 하는 내장고용 폴리우레탄 발포시스템을 개발했으며 최근엔 이수화학이 탄화수소계 대체세정제를 개발, 양산에 나섰다.

이처럼 국내기업들의 CFC 대체물질에 대한 연구개발이 활발히 이뤄지고 있는가운데 듀폰, 아토상 등 다국적 기업들이 국내에 출원한 대체물질의 핵심기술이 불소화촉매에 있는 만큼 국내 기업들도 이들이 보유한 특허망을 벗어나대등한 경쟁을 벌이기 위해서는 촉매개발에 역점을 두어야 할 것으로 지적됐다. 또 현재 개발되고 있는 대체물질중 HCFC는 몬트리올의정서에 경과물질로 규정돼 있는 만큼 사이클로펜탄을 발포제로 하는 폴리우레탄(PU) 발포시스템 개발과 같이 오존층 파괴가 전혀없는 제3세대 CFC 대체물질 개발에 계속적인노력을 기울여야 할 것으로 지적됐다. <김종윤 기자>