한국진공학회, 95년 2월 16,17일 CVD심포지엄 개최

한국진공학회 박막분과 제2위원회는 내년 2월 16, 17일 양일간 성균관대에서CVD Chemical Vapour Deposition)심포지엄을 개최한다.

전자.기계는 물론 화학.화공.재료.진공기술등 여러 분야의 기술이 복합되는 CVD분야는 공정.재료.소자.응용등에서 산업계에 폭넓게 사용되는 최첨단기술 로 특히 반도체.LCD.태양전지.광디비이스 등 그 응용분야의 대부분을 전자산업이 차지하고 있다.

한국진공학회는 이번 CVD심포지엄개최를 위해 열, 플라즈마, 광CVD, CBE, MOMBE 화학반응메커니즘, 모델링, 장치설계, CVD전구체는 물론 각종 기능성재료및 소자관련연구논문을 모집할 계획이라고 밝혔다.

포항공대 화학공학과 이시우교수는 "CVD공정기술은 반도체.장비.TFT LCD산업 에서 빼놓을 수 없는 핵심공정기술"이라고 전제, "CVD기술및 공정설계.장치 설계기술의 개발이 시급한 실정"이라고 밝혔다. <김광일 기자>